太陽能電池轉(zhuǎn)換效率提高1成 通過霧化實現(xiàn)無等離子損傷的高速成膜
“太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率最大提高了1成”——。東芝三菱電機(jī)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)開發(fā)出了通過將原料制成霧狀來形成薄膜的霧化CVD（化學(xué)氣相沉積）裝置“TMmist”。由于采用非真空工藝、不使用等離子體，因此有望減少裝置的設(shè)置面積和初期投資，并提高基材薄膜的特性。東芝三菱電機(jī)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)將瞄準(zhǔn)太陽能
“太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率最大提高了1成”——。東芝三菱電機(jī)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)開發(fā)出了通過將原料制成霧狀來形成薄膜的霧化CVD（化學(xué)氣相沉積）裝置“TMmist”。由于采用非真空工藝、不使用等離子體，因此有望減少裝置的設(shè)置面積和初期投資，并提高基材薄膜的特性。東芝三菱電機(jī)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)將瞄準(zhǔn)太陽能電池透明導(dǎo)電膜的成膜等用途，力爭2014年度獲得約10億日元、2015年度獲得約20億日元的訂單。用超聲波霧化
使用真空工藝的已有濺射裝置等需要真空室及真空泵等附屬設(shè)備。隨著基板的大型化，這些設(shè)備的設(shè)置面積及初期投資將會大幅增加。而且還無法避免等離子體給基材薄膜造成的損傷。
因此，東芝三菱電機(jī)系統(tǒng)將開發(fā)目標(biāo)瞄準(zhǔn)了利用非真空工藝、無等離子體損傷的成膜技術(shù)。該公司著眼于日本京都大學(xué)等研究的霧化CVD技術(shù)，以該技術(shù)為基礎(chǔ)，從2007年開始致力于產(chǎn)品化。
TMmist大致由（1）將原料制成霧狀的超聲波噴霧器、（2）向生產(chǎn)線上流過的寬1m左右的基板供應(yīng)霧狀原料的細(xì)長整流噴嘴、（3）加熱基板的加熱器等構(gòu)成（圖1）。
圖1：利用超聲波使原料霧化
作者： 來源：日經(jīng)技術(shù)在線 責(zé)任編輯：gaoting
太陽能發(fā)電網(wǎng)|roeg.cn 版權(quán)所有