憑借上述措施，TMmist可獲得與濺射裝置等同等的膜質(zhì)。以透明導(dǎo)電膜的特性為例，薄膜電阻值達(dá)到了9.5Ω/□，波長400n～800nm的可見光的 平均透射率達(dá)到了90.5％注3）�？蓾M足太陽能電池的透明導(dǎo)電膜要求的10Ω/□以下、80％以上的標(biāo)準(zhǔn)（圖2）。



　　無損傷
　　此次裝置比濺射裝置出色的是，不僅能夠減少采用非真空工藝時較大的設(shè)置面積及初期投資，而且還可憑借無等離子體損傷這一點(diǎn)來提高基材薄膜的特性。
其中，無等離子體損傷的良好效果得到了太陽能電池廠商的證實(shí)。有廠商報告稱，用于CIGS（Cu-In-Ga-Se）型太陽能電池的透明導(dǎo)電膜時，“轉(zhuǎn)換效率（最大）提高了1成”。在良好的結(jié)果鼓舞下，已開始有太陽能廠商考慮導(dǎo)入試制機(jī)。
　　另外，成膜速度也比濺射裝置高。濺射裝置約為200nm/分鐘，而TMmist達(dá)到了650nm/分鐘。其原因估計是霧狀液體能夠比氣體實(shí)現(xiàn)更多的原料供給量。


　　作為TMmist最初的應(yīng)用領(lǐng)域，東芝三菱電機(jī)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)選擇的是今后市場有望增長的CIGS型太陽能電池的透明導(dǎo)電膜。而且今后該公司還將開拓其他用途， 比如顯示器等使用的透明導(dǎo)電膜，以及使用有機(jī)原料的有機(jī)EL等（圖3）。其中，在有機(jī)EL方面，除了用于透明導(dǎo)電膜之外，還可用于發(fā)光層、電子傳輸層及正 孔傳輸層等。




作者：河合 基伸 來源：日經(jīng)BP社 責(zé)任編輯：wutongyufg