霧化cvd高速成膜 太陽能電池轉換效率提高1成！
“太陽能電池的轉換效率最大提高了1成”——。東芝三菱電機產業(yè)系統(tǒng)開發(fā)出了通過將原料制成霧狀來形成薄膜的霧化CVD（化學氣相沉積）裝置“TMmist”。由于采用非真空工藝、不使用等離子體，因此有望減少裝置的設置面積和初期投資，并提高基材薄膜的特性。東芝三菱電機產業(yè)系統(tǒng)將瞄準太陽能
TMmist大致由（1）將原料制成霧狀的超聲波噴霧器、（2）向生產線上流過的寬1m左右的基板供應霧狀原料的細長整流噴嘴、（3）加熱基板的加熱器等構成（圖1）。
具體操作過程如下。先由（1）超聲波噴霧器利用1.6M～2.4MHz超聲波將成膜原料溶液制成直徑數(shù)μm的霧狀液滴注1）。接著，將霧狀原料與載氣混合，輸送至（2）整流噴嘴，噴到基板上。然后，噴到基板上的原料（3）在加熱器產生的熱效應下分解反應，形成薄膜。
實現(xiàn)產品化時的最大課題是如何優(yōu)化對膜厚及膜質不均問題有重大影響的（2）整流噴嘴內部構造。這時需要利用整流噴嘴使霧化的原料均質化，噴到基板上。東芝三菱電機系統(tǒng)在母公司三菱電機的研究所的協(xié)助下，對霧化原料的流動與內部構造之間的關系進行了反復分析。另外，還對（1）超聲波噴霧器使用的原料溶液的成分等實施了優(yōu)化，同時改進了（3 ）加熱器的機構，從而實現(xiàn)了大面積基板的均勻加熱注2）。
注1）泄漏至裝置外部的超聲波數(shù)量符合制造設備業(yè)界團體SEM（I SemiconductorEquipment and Materials International）的標準。
注2）在寬1m的基板上形成透明導電膜時，膜厚不均程度為±20％。通過在產生線上排列多個整流噴嘴、重復成膜，便可將成膜膜厚的不均程度降至±10％。
作者：河合 基伸 來源：日經(jīng)BP社 責任編輯：wutongyufg
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